优势产品:烧结银、无压烧结银,有压烧结银,半烧结纳米银膏、纳米银墨水、导电胶、导电银浆、导电油墨、银/氯化银、纳米银浆、可拉伸银浆、烧结银膜、纳米焊料键合材料、UV银浆、光刻银浆、UV胶、导热绝缘胶、DTS预烧结银焊片、导电银膜、银玻璃胶粘剂,纳米银胶、纳米银膏、可焊接低温银浆、高导热银胶、导电胶等产品,拥有完善的纳米颗粒技术平台,金属技术平台、树脂合成技术平台、同位合成技术平台,粘结技术平台等。
激光烧结纳米银浆:开启印刷电子制造新纪元
一 、技术原理与核心突破
1 低温烧结机制
纳米银浆在激光照射下吸收光能,纳米银颗粒通过表面原子扩散形成致密连接层。烧结温度可控制在200℃以下(传统焊料需250℃以上),避免损伤硅基半导体(如SHJ电池的a-Si:H钝化层)。例如,CO₂激光(10.6 μm波长)对银浆的吸收率高达90%,而SHJ电池的TCO层和a-Si:H层几乎无吸收,实现选择性烧结。
2高精度图案化
AS9120纳米烧结银浆通过微分配泵(精度±1 μL/min)与激光同步控制,可在柔性基材(如PET、PI)上打印或者印刷线宽<30μm的银线路。例如,使用内径50μm针头打印的银线电阻率低至0.45 Ω/cm,线高可达18.6μm。
3界面优化技术
烧结后银层形成多孔桥状网络,孔隙率约2%-5%,既降低体电阻(接近纯银的90%),又通过纳米银颗粒桥接缓解热应力,提升可靠性。
二、核心优势与术突破
1性能跃升
导电性:AS9120纳米烧结银浆体电阻率可低至4.7μΩ·cm(传统丝网印刷银触点约20-100μΩ·cm)。
热管理:AS9376烧结银膏热导率260 W/m·K,是传统焊料的4倍,满足SiC/GaN器件散热需求。
可靠性:剪切强度>45 MPa,通过-55~175℃热循环测试(>1000次)。
2工艺革新
非接触式加工:纳米银墨水AS9000避免针头堵塞,支持高精度、高良率生产(如SHJ电池金属化良率提升至99.5%)。
低温兼容性:可在PET等柔性基材上实现3D堆叠封装,弯曲半径<2 mm。
3成本与环保
银浆成本较传统焊料高5-10倍,但通过优化银粉分散性可降低30%用量。
无铅无卤素,符合RoHS标准。
三、应用场景与典型案例
1光伏电池金属化
SHJ电池:接触电阻率1-3mΩ·cm²,钝化层无损伤(PL成像无黑线)。
TOPCon电池:LECO(激光增强接触优化)技术实现超低接触电阻,效率突破25.5%。
2先进封装与3D集成
AI芯片:烧结银TIM材料热阻低至0.1℃·cm/W,支撑算力密度60 TOPS/mm³。
卫星通信:抗辐射封装(耐10⁶rad剂量),相控阵天线增益提升15%。
3柔性电子与传感器
可穿戴设备:AS9120BL印刷银电路弯曲半径<2 mm,信号传输稳定。
生物传感器:高灵敏度检测(如葡萄糖传感器响应时间<5秒)。
四 、工艺优化与挑战
1关键参数控制
激光参数:功率(11.8 W)、扫描速度(1-5mm/s)、光斑距针尖距离(1.5-2 mm)需精确匹配。
银浆配方:高粘度纳米银浆AS9120(11,000-67,000cP)可提升线高至18μm,降低电阻率。
2现存挑战
大面积均匀性:模块级烧结(>100 mm)易出现孔隙不均,需多激光头并行。
成本控制:纳米银粉价格高(约1,400美元/kg),需开发低成本连续合成工艺。
五 未来趋势与创新方向
1低温化与大面积化
开发200℃以下烧结工艺(推荐AS9120纳米银浆),适配PI基材和生物可降解电子。
开发长线条激光器,实现500mm付款大面积均匀烧结,推动卷对卷(R2R)生产。
2智能化与多材料集成
实时优化激光参数,提升良率;与铜烧结、石墨烯复合,开发低成本高导互连方案。
3新兴领域拓展
脑机接口:高密度柔性电极(电极间距<10 μm)实现神经信号精准采集。
量子器件:超低温烧结银膏AS9338支持量子点集成,推动量子计算芯片发展。
总结
A光烧结纳米银浆技术通过低温、高精度、无接触的加工特性,正在推动印刷电子向高性能、低成本、柔性化方向跨越。其在光伏、AI芯片、卫星通信等领域的成功应用,标志着电子制造进入“微纳尺度精密互联”新纪元。未来,随着工艺优化与新材料开发,该技术将进一步释放印刷电子在智能制造、生物医疗等领域的潜力。
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